基于温升优化的磁性珩磨加工可持续性分析及实验研究

来源 :太原理工大学 | 被引量 : 2次 | 上传用户：esacjw

【摘要】

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ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清华大学发明人:隋森芳文摘:本发明属于生物技

【作者】

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郭慧栋

【出处】

：

太原理工大学

【发表日期】

：

2018年01期

【关键词】

：

磁性珩磨磁场发生器损耗矢量控制温度场

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ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清华大学发明人:隋森芳文摘:本发明属于生物技术领域,包括主机、控制电路和计算机三部分组成,主机包括由棱镜。敏感膜敏感芯片、半导 Ue*M#

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