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采用溅射法分别制备了不同Gd掺杂量的ZnO系列薄膜(Gd掺入量为0~2.0at%)和N掺杂TiO_2系列薄膜(沉积温度为RT~600℃)。利用电子探针(EPMA)、透射电子显微镜(TEM)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、X射线光电子谱(XPS)、紫外-可见分光光谱仪、瞬态/稳态荧光光谱仪,对Gd掺杂ZnO系列薄膜以及N掺杂TiO_2薄膜的成分、微观结构、表面形貌、光学特性与光催化性能进行了表征和分析。主要研究结果如下:Ⅰ利用射频(RT)磁控溅射方法制备了不