高纯硒化氢合成工艺研究

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硒化氢是一种非常重要的电子气,广泛应用于半导体工业。作为生产半导体材料的重要原材料和还原气,硒化氢主要应用于生产半导体器件,能够在半导体表面形成P-N保护层和隔离层。高纯硒化氢在国防尖端和航天航空等领域有着非常重要的用途。随着我国半导体工业的快速发展,市场对硒化氢气体的需求越来越大,推动了科研人员对硒化氢合成技术的研究热情。根据国内外文献资料的报道,目前硒化氢制备的方法主要有两种,其一是通过金属硒化物与水发生分解反应来制备硒化氢。第二种方法是通过高纯氢和硒在250至570℃时直接化合而得。第二种方法中570℃时硒化氢的产量为最大(超过50%)。本轮文通采用第二种技术路线,即通过高纯氢和硒在高温下直接合成,设计了硒化氢合成装置和尾气处理系统,保证了生产过程中的操作安全和环境安全,实现了高纯度硒化氢的工业规模生产。对合成的硒化氢气体进行了脉冲放电氦电离色谱,火焰光度检测器色谱仪,氢火焰光度检测器色谱,微量水的检测等多种仪器技术分析,得到了硒化氢的产品中各种杂质含量。采用多级吸附技术和过滤技术对硒化氢产品中的各种杂质组分进行了分离纯化,纯化后的硒化氢纯度达到了4N以上,产品质量稳定可靠,满足半导体工业对高纯硒化氢气体的需求。
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