面孔识别的事件相关电位时空特性

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本文综合应用行为学、事件相关电位手段及脑电地形图的技术,探讨面孔领域的内隐记忆与外显记忆的关系,面孔内隐下的正性表情和负性表情的关系以及面孔角度的时空特性。主要内容如下:1.研究了面孔内隐的脑加工机制及面孔内隐与外显的区别采用在快速呈现刺激并转移被试注意力的条件下让被试加工分心物来控制对面孔的加工水平,并采用新旧判断,分析再认出旧面孔与新面孔(外显记忆),以及未再认出旧面孔与新面孔(内隐记忆)的差异。实验分为高负荷和低负荷两个层次,从而探讨了不同负荷条件对内隐加工的影响。本文还对个体差异现象、“N400效应”、“P600效应”、交叉翻转现象进行了深入研究,并结合脑电地形图从结构上探索面孔内隐及外显两个系统的分离特征。结果显示外显记忆从刺激后400ms开始,主要表现在前部脑区,而内隐记忆主要表现在刺激后300ms-500ms的中央区和顶区,N400效应与LPC效应代表不同加工过程。在单一的再认过程中,外显记忆和内隐记忆的脑机制产生了分离,ERPs时空特性不同。2.研究了内隐条件下中性面孔和表情面孔的区别与联系及正性表情和负性表情的区别与联系面孔内隐表情识别的ERP研究采用“学习-测试”面孔经典实验范式。学习阶段呈现“面孔汉字图片”让被试记忆图片中的汉字、面孔及汉字与面孔的搭配;再认阶段采用新旧判断,分析再认出旧汉字、旧面孔及旧面孔汉字图片的ERP波形。本文对加工速度,加工区域,半球效应,特异性成分等目前存在争议的几个方面进行了探讨。结果显示面孔特异性成分N170和VPP以及其后的P200,N270和LPC成分都可以在带表情面孔的ERP波形中找到。在450ms-850ms之间,愉快表情所引发的晚期成分和愤怒表情所引发的晚期成分有明显的差别。负性情绪加工存在半球差异。3.对面孔侧脸角度加工过程进行了初步探索面孔角度的ERP实验对比了面孔侧脸和面孔倒置的ERP波形,结果显示N170波幅随角度的增加而减小,但潜伏期的延迟情况在不同脑区情况不同,对侧脸面孔的加工过程与倒置面孔的加工过程有区别。
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