本论文通过深入研究激光干涉的基本理论,设计不同相干光束从不同的方向入射在空间形成干涉,并分析相关参数(入射角、空间角、偏振状态、光强、位相等)对激光干涉结果的影响。论文主要对激光干涉光强分布进行了编程及模拟、并用此模拟得到了多光束干涉在不同参数下的二维及三维光强分布,并在此基础上搭建实验光路,用反射镜、分光镜来控制光路的折转,用扩束镜对相干光束进行扩束,利用CCD进行干涉图像采集、分析参数对纳米级干涉周期性图案的影响并进行公式推导,从理论上解释在不同参数情况下的干涉现象,并结合已有的结果,总结得出激光干涉图案在不同参数条件下,干涉结果的变化规律。进一步推动了激光干涉理论研究。本研究共五章,第一章为绪论,简单介绍了激光的特性和激光干涉光刻的工作原理,以及纳米科学技术的应用领域和激光干涉纳米阵列加工的前景等；第二章为激光干涉的基本表达式,在激光干涉光刻的基本原理的基础上,列举了三光束、四光束、六光束干涉的原理示意图,并且对一定参数条件下的干涉总光强进行了公式推导；第三章为多光束干涉的模拟结果,利用计算机编程模拟得到不同参数条件下,多光束干涉的二维、三维仿真模拟图形以及模拟结果截面的光强分布曲线；第四章为激光干涉光刻系统搭建及图样采集,给出多光束干涉的系统框图并搭建实际激光干涉光路,采集CCD图样,验证模拟结果的正确性；第五章为结论,对激光干涉光刻纳米阵列的研究全文进行总结。