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未来的ITER、CFETR热核聚变反应堆将会进行高参数、长脉冲等离子体放电实验，并且使用D/T混合气体作为工作气体，不可避免会导致大量的D/T滞留在第一壁上，但是由于ITER和CFETR都具有很强的磁场，因此强磁场条件下的高效壁处理是未来聚变装置的必要条件。通过HT-7和EAST的实验发现高频辉光放电可以在强磁场下稳定地工作，是最有前景的壁处理方法之一，但是目前对其工作机理和清除效率并不十分清楚，所以本论文主要针对EAST装置上的高频辉光放电清洗的工作机制及其对杂质的清除率进行深入研究，并对EAST真空室暴露大气后的壁处理进行分析，为ITER壁处理提供可靠有效的数据。 通过对EAST等离子体放电真空室在有涂层和无涂层处理这两种条件下暴露大气后的壁处理过程进行了比较，研究了涂层处理对于壁条件恢复的影响，并比较了不同壁处理对聚变装置恢复运行的影响。 对直流辉光放电实验平台的电极结构进行改进，增大了辉光的离子流和离子能量，在实验平台上进行钨样品制备，并且在实验平台上对直流辉光放电特性进行研究，实现了辉光放电基本过程，为高频辉光的实验研究提供一定的参考。 分析了高频辉光的击穿机制，通过在EAST的实验发现，在强磁场下的高频辉光击穿气压比直流辉光更低，并且磁场下的高频辉光等离子体比ICRF等离子体极向更均匀。通过研究工作气压、磁场强度、电流这些清洗参数对杂质清楚效果的影响，发现磁场的存在会影响高频电源的电流输出，从而降低高频辉光的清除效率。在强磁场下，0.5Pa气压下的高频辉光对D2的清除效率明显高于ICRF和直流辉光。同时利用谐频诊断测量了高频辉光的等离子体参数，实验结果显示高频辉光的电子温度约为4eV，离子密度约为1.5×1014m3，这些实验结果为未来的高频辉光放电清洗的参数优化以及结构改进提供了数据参考。