碳纳米管薄膜的制备与场发射性能研究

被引量 : 1次 | 上传用户：zhangliu2009

【摘要】

：

碳纳米管薄膜由于其独特的结构和优良的性能,尤其在场发射方面的应用受到极大的关注,而原位生长碳纳米管薄膜是制备场发射阴极的一个重要方法,本文用化学气相沉积法分别用Fe(NO_3)_3、Ni(NO_3)_3、Co(NO_3)_3做催化剂前驱体,结合丝网印刷技术在不同基底(石英、硅片、钛片、AAO模板)上制备多壁碳纳米管薄膜,结果表明除Co(NO_3)_3外所得到的碳纳米管薄膜管径均匀、密度可控,有希望

【作者】

：

李广山

【机构】

：

西北大学

【发表日期】

：

2008年06期

【关键词】

：

碳纳米管阴极丝网印刷场发射平栅极结构激光烧蚀

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