非晶Nd-Fe-B薄膜通过磁控溅射设备沉积在Si衬底上,主要研究了溅射条件(溅射气压、溅射温度、衬底温度)对其形貌结构与磁性能的影响,并着重讨论了溅射温度和薄膜厚度对具有垂直磁各向异性的Nd-Fe-B非晶薄膜内易磁化方向的影响。实验结果显示,溅射气压和溅射温度的变化都会导致薄膜磁晶各向异性常数的变化,从而直接影响薄膜的磁学性能。衬底温度同样对薄膜形貌和磁畴结构产生影响,实验中室温溅射Ta、250℃溅射的Nd-Fe-B薄膜表面较为粗糙,磁畴结构为条形畴；而400℃溅射Ta、2500C溅射的Nd-Fe-B表面非常平整,磁畴结构为迷宫畴。溅射温度和薄膜厚度对薄膜磁性能的影响可归结为磁晶各向异性能和形状各向异性能的相互竞争。实验结果显示,200nm厚150℃溅射的薄膜(磁晶各向异性能较小,形状各向异性能较大)易磁化方向较为靠近平行膜面方向,因而其磁畴结构在外加水平磁场下会发生巨大变化并形成沿外磁场取向的条形畴；而600nm厚300℃溅射的薄膜(磁晶各向异性能大,形状各向异性能小)易磁化方向靠近垂直膜面方向,因而磁畴结构在相同外磁场的影响下变化不大。此结果在磁记录方面有一定的意义。最后,研究了非晶Nd-Fe-B薄膜的磁光特性,发现在极克尔效应中,其克尔角在波长为440nm处出现极大值,最大甚至达到0.5。。短波长克尔效应明显,具有一定的应用价值。