产品在贮存、运输等流通过程中常会受到各种不利因素的破坏和影响,采用合理的包装可使产品免受或减少这些影响。通过高阻隔材料包装产品可实现对包装内气体成分及含量的控制,从而有效地延长产品的保质期,因此高阻隔材料成为最为重要的功能包装材料之一。本课题对EVOH/纳米SiO₂高阻隔包装材料的制备、结构及其性能进行了研究,主要内容有:在复合剪切力场下,用化学沉淀法制备了纳米SiO₂,并对产品进行了表征;采用不同共混法制备了EVOH/纳米SiO₂复合材料,研究了加工工艺（共混工艺和吹膜工艺）,通过对复合材料的表征,分析了加工工艺对制备高阻隔包装膜结构与性能的影响;用不同的偶联剂和聚合物接枝改性纳米SiO₂,并与EVOH复合制备复合材料,研究了复合材料的界面结构,并讨论了界面结构与其性能之间的关系;在较佳的加工工艺和纳米SiO₂改性方法下制备了EVOH/纳米SiO₂复合材料的膜材和板材,系统的对膜材和板材进行了表征,并对其进行紫外辐照处理,分析了紫外辐照处理对复合膜的影响;在振动力场下加工EVOH/纳米SiO₂复合膜,分析振动力场下加工高阻隔材料对其结构与性能的影响。结果表明:在复合剪切力场下制备的纳米SiO₂的形貌近似球形、平均粒径为19.5 nm且分布较窄,原位改性的效果良好;合理的加工工艺改善了EVOH/纳米SiO₂复合材料薄膜结构的有序程度和结晶形态等,使薄膜的性能得到明显提高;溶液共混法制备的复合材料,纳米SiO₂在EVOH中的分散性较熔融共混法好;聚合物接枝改性和偶联剂改性的纳米SiO₂在EVOH中的分散性、相容性和界面作用得到了改善,复合膜的性能得到提高,KH550是体系的较佳改性剂;纳米SiO₂填充EVOH能提高复合材料结晶性能等,从而使复合材料的膜材与板材的各性能得到明显提高;而合理的紫外辐照也能提高复合膜性能;振动力场下加工复合材料,改善了纳米SiO₂的分散性,改变了复合材料晶体的晶型及取向,而使复合材料的性能提高。