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本文对纳米结构涂层的制备、性质和应用进行了综述,进而对Cr-Si-N纳米薄膜体系的发展进行了回顾,采用磁控溅射方法,以Ar气和N2气作为放电气体,制备了CrN/SiNx纳米多层膜,并利用XRR、XRD和AFM研究了各种沉积条件对多层膜周期结构、物相等的影响。同时研究了CrN/SiNx多层膜的界面融混情况及其热稳定性。