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真空系统中使用的各种材料,由于加工、清洗、装配、运行过程中存在有机物残留,使得材料表面有污染物质。这些污染物质在一定条件下会在真空中释放,经扩散,吸附、沉降到真空室和光学元件等表面,导致系统污染、元件性能下降和其他一些负面影响。因此,材料表面污染物的检测分析具有非常重要的意义。本文阐述并对比了常见的材料表面污染物分析方法和质谱常压离子化技术,其中分析方法包括色谱法、光谱法和质谱法；质谱常压离子化技术包括喷雾型、放电型、激光辅助解吸型和热解吸型离子化技术。其中,质谱法设备简单、定性能力好、灵敏度高、可