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磁流变抛光后的KDP晶体表面的残留物影响晶体的使用性能,晶体软脆、易潮解、易开裂的特点使其表面残留物难以去除。本文研究了抛光液和KDP晶体表面之间的吸附机理,将化学去除方法和磁场辅助液体射流去除方法结合起来用于KDP晶体表面清洗,提出了磁场辅助液体射流清洗技术,研制了磁场辅助液体射流清洗装置。提出了浸泡清洗、液体射流清洗和气射流吹干的残留物去除工艺；选择配制了清洗液,优化了清洗工艺参数,有效地去除了KDP抛光晶体表面的残留杂质。研究了KDP晶体抛光表面的杂质吸附行为；结果表明,晶体表面存在残留抛光基