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随着信息技术的迅猛发展,用光代替电子作为信息的载体,加快信息的传递速度,已成为光通讯技术和光电子计算机发展的必然趋势。光电子信息材料是本世纪最受关注的材料之一。在光电子学、光化学、微电子学等领域,ZnO必将成为未来半导体材料研究中最具前景的材料之一。ZnO薄膜的结构及其光学特性强烈的依赖于制备条件,例如衬底温度、沉积方法、工作气压、溅射氧分压及衬底类型等。本论文中,为了系统的研究制备条件对ZnO纳米薄膜显微结构及其光学特性的影响,用射频反应磁控溅射技术在玻璃衬底上制备出了八个具有c轴高择