随着微加工技术以及集成光学的迅速发展，对纳米结构和紫外光刻技术的分辨率要求越来越高，但是传统光刻技术的分辨率会受到光学衍射极限的限制。表面等离子体激元具有近场局域增强和纳米聚焦等特性，为突破光学衍射极限的高分辨光刻技术提供了一种新的方法。本文提出了一种基于双光束表面等离子体共振腔（共振腔由上下金属薄膜层以及光刻胶层组成）的纳米图形产生及光刻技术。基于有限时域差分法，我们对双光束表面等离子体共振腔进行了数值模拟。结果表明在入射光波长为436nm下，能够在共振腔中获得周期为70nm的纳米点阵，相当于1/6入射光波长，有效地突破了衍射极限。进一步，通过改变腔长（即光刻胶厚度），我们可以改变或调节纳米点阵的周期。此外，我们还讨论了双光束表面等离子共振腔各参数的变化对纳米点阵分辨率的影响，以寻求实验上的可能性和工艺上的应用。基于超透镜原理，我们提出并研究了一种三维表面等离子体共振腔的超透镜结构的任意图形亚波长成像技术。在成像区域增加银层形成超透镜/光刻胶/银层共振腔，能显著地抑制长程等离子波模式，进而压制成像中的旁瓣效应，提高图像分辨率；同时由于共振腔中的表面等离子体共振，像场被放大且扩大到整个成像区域，从而极大地提高成像系统的焦深。数值模拟结果表明与传统开放式结构相比，像方区域表面等离子体共振腔结构能够获得明显改善的图像质量，旁瓣效应被有效地抑制，同时成像焦深比传统系统提高数倍。我们建立了表面等离子共振腔超透镜系统的光学传输函数。结果表明,表面等离子体共振腔能使系统传输函数变得更平滑。该方法提供了一种新的高分辨、大焦深并且具有实际可行性的超深亚波长成像技术。