IC制造是提升国民经济与实现电子信息现代化的高新产业之一。IC制造过程一般需要切片、外延、淀积、光刻、离子注入等多个工艺制造过程协同完成。而硅外延设备作为IC制造工艺的前端工艺装备,其设备生产的产品质量直接影响着后续工艺设备的产品质量,所以对硅外延工艺过程进行有效监控具有着重要的意义。硅外延工艺过程是一个需要对多种气体(如H2,HCL,SiH4等)进行通断控制,并且在其他辅助设备的协同控制下而完成的一个复杂的工艺过程。而在工艺过程中某一单元设备的不良参数处理不及时将有可能导致硅外延工艺过程的失败,影响企业效益。另一方面,在硅外延工艺过程中伴随着易燃、易爆、有毒等危险气体的掺杂,如果对危险气体的泄漏不进行及时控制,有可能影响设备安全与人员的安全,从而造成经济损失。本文以硅外延设备为研究对象,从硅外延设备的具体需求出发,首先介绍了本文研究的硅外延设备的功能结构组成,其次分析了硅外延设备监控软件的整体功能需求与具体的详细功能需求。并根据硅外延设备监控软件功能的分解,以及从减少模块间的耦合性、提升软件的维护性方面考虑,建立了硅外延设备监控软件的整体功能模型、模块间的关联模型、数据流模型等,设计了组件之间和模块之间的调用关系。最后,从监控软件对数据收集的完整性需求考虑,设计了动态的数据缓冲队列;从硅外延设备数据组织合理性的需求考虑,设计了硅外延设备数据的组织结构;从硅外延设备界面信息显示的实用性需求考虑,设计了基于观察者模式的界面更新方法,并从软件的易维护的考虑出发,对观察者模式采用基于事件与委托的方法进行优化;从硅外延设备报警处理需求等方面考虑,对监控软件模块中的相关报警处理算法进行了详细的设计。在文章的最后,完成了监控软件各组件中的各模块的具体类的实现,并通过对软件的测试验证了硅外延设备监控软件功能的可靠性。