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采用直流反应磁控溅射的方法，通过改变溅射功率、改变工作压强、改变衬底温度以及退火处理等方法，在玻璃衬底上制备了ZnO薄膜。通过X射线衍射法(XRD)、扫描电镜(SEM)及原子力显微镜(AFM)对样品的结构、形貌特性进行了测试和表征，利用场发射、荧光光谱仪对样品的阴极射线发光特性和光致发光进行了测试和分析。研究了ZnO薄膜的结晶状况、成份、点缺陷浓度等因素与其发光特性之间的关系，找到制备较好薄膜的实验条件。实验表明，在溅射功率为150w、工作压强为4Pa、沉底温度为250度及进