随着纳米制造技术的不断发展,各种器件的集成度不断提高,器件尺寸也向着更小尺度的方向发展,这其中产生纳米图案的技术一直扮演着器件制造的重要角色。因而要推动纳米制造技术的继续前进,就需要相应的纳米图案产生技术。目前产生纳米图案的方法主要包括：电子束曝光,聚焦离子束曝光,相干光刻等。这其中,相干光刻技术由于其设备简单,操作方便,可以制备大面积的微纳阵列图案,已成为一种实验室常用的微纳加工技术。纳米结构由于其自身的尺寸的关系会产生一些特殊的效应,这些效应相应地会使材料具有特殊的物理化学性质,从而使其被广泛地运用于光电、磁学、生物医学、电化学等方面。而这其中,贵金属纳米粒子由于其表面等离子体共振效应,会产生强的光散射、吸收现象,显著增强局域场的场强,从而被广泛运用于表面增强拉曼散射(SERS)衬底的制备中。本文主要围绕相干光刻和SERS衬底的制备这两个部分进行展开。论文的第一部分主要研究了相干光刻技术制备纳米阵列结构。我们采用三层结构堆栈光刻胶体系制备图案。首先在衬底表面旋涂一层光刻胶AZ1500,接着沉积一层10nm厚的二氧化硅层,再旋涂一层光刻胶。利用这种结构可以得到侧壁陡直的光刻图案,利于后续的举离工艺。我们成功制备出了各种尺度的光栅及点阵的图案,讨论了曝光剂量,显影时间等参数对光刻图案的影响。同时我们还设计搭建了两种不同的光路图用于制备光刻图案,分别为劳埃德镜法和马赫-泽德法,并且利用后者成功制备了2英寸周期均匀的光栅图案。我们还尝试两次曝光的工艺制备周期点阵结构,通过控制曝光剂量,成功制备不同形貌的点阵结构。论文的第二部分主要研究了基于复合纳米压印技术制备SERS衬底的工艺研究。复合模板相比于传统的刚性模板,可以更好地与衬底表面贴合；而且与传统的软模板相比,其具有较高的机械强度,可以保证图案转移的高分辨率,高保真度。实验过程中,我们采用双层胶压印的方法制备图案结构,成功制备出小周期的金属点阵,圆环结构。通过测量拉曼光谱测量,可以发现以多孔氧化铝为原始模板制备的纳米点阵结构的衬底其SERS增强效果最为明显。同时我们也研究了这种结构的点阵直径变化对其增强效果的影响。最后,我们通过模拟软件FDTD对其吸收,反射,透射光谱及局域场进行了模拟,从理论上解释了拉曼信号的增强原因。同时,我们还发现通过改变粒子的直径可以实现共振波长的可调。