基于ALD设计氧化物/氢氧化物过氧化物模拟酶的应用研究

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原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD)是一种先进的新型镀膜技术,可以单原子膜的形式进行逐层生长,而且可在较低温度下进行沉积,薄膜厚度均匀可控。上述特点使ALD技术较传统方法在材料成分优化,新型纳米材料设计等方面具有十分显著的优势,因而利用其构筑功能材料已广泛应用于催化、吸波、生物传感、电化学等多个领域。本文利用ALD技术的独特优势,制备了系列金属氧化物及层状双金属氢氧化物(LDH),并探讨了其过氧化物模拟酶的催化活性,建立了一套用于检测过氧化氢和葡萄糖的简单且灵敏度高的比色检测方法。本文的主要内容如下:1.利用ALD技术在草酸镍(NiC2O4)纳米线表面沉积三氧化二铝(A12O3)薄膜,然后在氢气氛围下煅烧,可获得Al2O3/Ni空心管状结构。主要原因是ALD沉积的A12O3薄膜比较稳定,且具有良好的保形作用。结合水热方法进一步处理,A12O3可原位转化为CuNiAl LDH。经扫描电镜和透射电镜检测发现,CuNiAl LDH为多层纳米片构筑而成的多层纳米管。过氧化物模拟酶催化活性研究表明,其具有显著的过氧化物模拟酶活性,可用于检测过氧化氢和葡萄糖。葡萄糖检测限低至 2.9 μM,线性范围 10-200μM,拟合曲线方程式为 A=0.00048 Cglucose+0.01815,相关系数0.9979,且在实际样品检测中具有很好的检测效果。2.利用ALD技术在碳纤维表面均匀包覆Al2O3,结合水热处理,成功制备出C@CuAl-LDH复合材料。扫描电镜和透射电镜结果表明,CuAl-LDH纳米片均匀生长在碳纤维表面。C@CuAl-LDH的过氧化物模拟酶催化活性研究表明,可用于检测过氧化氢和葡萄糖。葡萄糖检测限低至3.8 μM,线性范围5-100 μM。由于其制备过程简单,成本低廉,在生物医药,环境检测及食品加工领域具有广阔的应用前景。3.利用ALD技术直接在碳纳米管(CNT)上交替沉积NiO/Fe2O3,可获得NiO/Fe2O3/CNT复合物,并研究了其过氧化物模拟酶的催化活性。得益于高度可控的ALD技术,NiO/Fe2O3纳米颗粒在整个CNT表面分布均匀。基于NiO/Fe 2O3/CNT的过氧化物模拟酶活性,建立了一种免标记的比色分析方法,用于检测过氧化氢和葡萄糖。葡萄糖检测范围是5-60 μM,检测限为2.2 μM。
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