稀磁半导体材料(DMS)作为一种新型的多功能自旋电子器件的潜在应用材料已经越来越引起人们的关注。考虑到DMS和现有器件的兼容性,Ⅲ-Ⅴ族稀磁半导体材料成为在当前已存在的光电器件的基础上利用多种多样磁现象的选择对象。在Mn掺杂的Ⅲ-Ⅴ族稀磁半导体材料中,Mn替代Ⅲ族原子并提供局域磁距和空穴,导致Mn原子巡游电子和局域磁矩间产生交换相互作用。在过去的一段时间内,很大一部分工作围绕着GaAs:Mn材料展开。近来,Dietl等人采用Zener模型对闪锌矿结构的磁半导体计算表明GaMnN具有高于室温的居里温度,这一理论预测的出现大大的刺激了GaMnN材料的理论和实验研究。在本论文中,将利用同步辐射方法来研究具有不同掺杂浓度的Ⅲ-Ⅴ族GaN:Mn和GaAs:Mn半导体材料的性质。应用XAFS研究获得半导体样品(GaN:Mn和GaAs:Mn)中Mn原子的局域原子结构和电子态等信息,了解它的近邻结构,用以确定磁性原子Mn在样品中的价态信息,并通过建立不同的理论模型对其近边进行理论计算。结合实验光谱对Mn的掺杂浓度对其Mn的局域结构的影响进行讨论。同时结合X射线衍射和拉曼光谱等方法对薄膜的结构和振动模式进行研究。实验结果表明,Mn的掺杂浓度对Mn的局域结构有很大影响。对于不同的Mn掺杂浓度,Mn在薄膜内的占位形式有所不同。对低掺杂浓度的样品来说,Mn主要是以替位形式存在于薄膜内,Mn3d和N2p轨道之间的耦合杂化能力较强,但是随着Mn掺杂浓度的提高,替位Mn的比例明显下降,薄膜内出现了更多的间隙Mn和Mn团簇,由于晶格中缺陷形成,影响了其p-d耦合杂化能力,导致其p-d耦合杂化能力降低。通过Mn的L边X射线吸收和K边X射线吸收两种方法的研究结果对比发现,在高Mn掺杂浓度的Ga1-xMnxN样品中,Mn在薄膜内局域结构与Mn在薄膜内的具体位置(近样品表面还是体内)有关。通过理论计算,给出了Mn团簇在Ga1-xMnxN薄膜内的具体构型,在近Ga1-xMnxN薄膜表面Mn原子主要以Mn5这种团簇形式存在,而对于体内的Mn原子则主要以Mn4这种团簇结构存在,这种现象主要是薄膜内间隙Mn的外扩散作用而导致的间隙Mn在样品表面和体内分布的不均匀而产生的。同时我们利用系统总形成能的计算来验证Mn5这种构型的Mn团簇在GaN晶格内存在的可能。对于GaAs:Mn我们采用扩展X射线吸收精细结构和近边X射线吸收精细结构相结合的方法对Mn在Ga1-xMnxAs中的局域结构进行了研究。在模拟EXAFS实验曲线时,我们采用了多相χ(k)函数线性叠加模拟的方法来处理不同Mn掺杂浓度的样品中可能存在多种Mn原子局域环境配置的情况。同样我们发现Mn的掺杂浓度对这个体系的Mn局域结构也有一定影响。在较高Mn掺杂浓度的样品中,我们发现了MnAs第二相的出现,而在更高Mn掺杂且通过后期的热退火处理的样品中,薄膜的结晶质量变好,并有部分Mn的团簇形成,但在膜内并没有发现MnAs相。可见,对于不同掺杂浓度的半导体材料(GaMnN和GaMnAs)的局域原子结构和电子态的研究,可以确定Mn原子在半导体材料中的价态,进一步确定磁性原子Mn在稀磁半导体中的所处的位置,这些对于磁性半导体材料磁性机理和特性的进一步研究具有很重要的指导意义。