以原子光学为基础的原子光刻技术是一种新型纳米结构的加工技术。采用该技术制作的一维纳米光栅结构的间距可直接溯源于激光波长,是一种理想的纳米计量传递标准的制作技术。利用该技术已先后对钠原子、铬原子、铝原子、镱原子和铁原子实现了一维纳米光栅结构的制作,并利用铬原子实现了二维纳米结构的制作。文章介绍了铬原子一维沉积系统,并对系统各个部分的功能及其作用进行了详细的描述。大量的前期试验表明我们自行设计的铬原子沉积系统各个部分工作良好,具备了铬原子沉积能力。在此基础上进行了大量铬原子沉积实验,取得了预期的实验结果。利用高斯光束传播规律,提出了一种能够定量判断激光驻波场与沉积基片相对位置的实验方法.该方法通过调节装载有凸透镜和反射镜的精密位移台改变驻波场距基片的距离,利用光电探测器接收反射光强的变化,将位移改变量转变为接收器的电压信号.利用驻波场激光束光斑直径值,实现准确定位驻波场与基片的距离.对上述实验过程进行数值模拟,数值计算的结果和实验结果高度符合。该方法实现了准确定位驻波场距基片的距离,为后续深入研究驻波场和基片间距离对沉积纳米条纹结构质量的影响提供实验基础。研究了沉积基片的清洗方法,采用RCA方法清洗了SiO2/Si(100)基片,同时分析和评价了清洗效果。测量和分析了InP基片的表面形貌特征。首次使用InP基片实现了铬原子纳米条纹结构的沉积,并获得了纳米条纹结构。经测量,条纹间距及其精度达到了(212.9+0.6)nm。此外,自行设计实验测量了该实验装置中铬原子的沉积速度为0.06nm/min。