【摘 要】
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碱性含铜蚀刻废液是印刷电路板蚀刻工序过程中产生的废弃物,其主要成分为Cu（NH3）4Cl2、氯、氨氮,如不经妥当处置就直接排放,不仅浪费了宝贵资源,而且对环境造成巨大伤害。该废液的无害化处理受到了人们的广泛关注。本文研究了以碱性含铜蚀刻废液为原料制取碱式碳酸铜、活性氧化铜、氯化钠的工艺,探索了氯化钠处理玻璃减薄蚀刻废液回收氟硅酸钠的工艺,试验确定了各产品制备的最适宜工艺条件,并对活性氧化铜生产过程
【基金项目】
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江苏某PCB企业,项目编号为:W2020JSKF0085；
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碱性含铜蚀刻废液是印刷电路板蚀刻工序过程中产生的废弃物,其主要成分为Cu（NH3）4Cl2、氯、氨氮,如不经妥当处置就直接排放,不仅浪费了宝贵资源,而且对环境造成巨大伤害。该废液的无害化处理受到了人们的广泛关注。本文研究了以碱性含铜蚀刻废液为原料制取碱式碳酸铜、活性氧化铜、氯化钠的工艺,探索了氯化钠处理玻璃减薄蚀刻废液回收氟硅酸钠的工艺,试验确定了各产品制备的最适宜工艺条件,并对活性氧化铜生产过程进行了设备选型、经济效益估算、环保评估;利用化学分析、XRD、TG和SEM等手段对产品进行分析和表征。主要研究结果如下:（1）实验确定了由碱性含铜蚀刻废液制备碱式碳酸铜的最适宜工艺条件为:搅拌速度250rpm、n（Na2CO3）:n(Cu2+)=1.5:1、m（铜）:m（助剂A）=1.1:1、脱氨温度85℃。化学分析结果表明,产品铜含量大于55.80%、硫酸盐含量小于0.04%、氯含量小于300ppm,主要指标符合工业碱式碳酸铜标准中Ⅰ类品要求。从XRD和SEM图中可以看出产品主物相为碱式碳酸铜,形貌为不规则姜块状,粒径在10～90μm之间。（2）实验确定了由碱式碳酸铜制备活性氧化铜的最适宜工艺条件为:反应温度90℃、液固比3:1、搅拌速度200rpm、m（助剂B）:m（碱式碳酸铜）=2.5:1、550℃煅烧1h。化学分析结果表明,产品纯度达到99.19%、氯含量小于15ppm、溶解速度低于20s,主要指标符合工业活性氧化铜标准要求。从XRD和SEM图中可以看出产品主物相为氧化铜,形貌为不规则微球状,粒径在0.1～30μm之间。（3）实验确定了由玻璃减薄蚀刻废液制备氟硅酸钠的最适宜工艺条件为:反应温度35℃、n（Na Cl）:n（H2Si F6）=2:1、反应时间75min、陈化时间15min、重结晶液固比75:1、3℃±1℃结晶24h。化学分析结果表明,产品纯度大于99.0%,主要指标符合工业氟硅酸钠标准中Ⅰ型优等品要求。从XRD图中可以看出产品主物相为氟硅酸钠。（4）经济效益估算结果表明:由碱性含铜蚀刻废液制备活性氧化铜项目可获得良好的经济效益;环保分析结果表明,该生产过程基本无三废产生,为清洁环保工艺。
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