类金刚石薄膜(DLC膜)具有很高的硬度、耐磨性、绝缘性、导热性、优良的光学特性、抗化学腐蚀性及其良好的生物相容性等特点，己被广泛的应用于机械、电子、光学及医学领域。近些年来，类金刚石薄膜的研究一直受到人们的广泛关注。　　 本文主要探讨了类金刚石薄膜获得的方法与技术以及类金刚石薄膜光电特性的检测。首先采用机械剥离高定向热解石墨法，获得了高质量的单层石墨烯。其次利用电子束蒸发设备，以高纯石墨作为蒸发膜料，采用不同的工艺条件，制备出了不同性能的类金刚石薄膜，并采用X射线衍射仪、拉曼光谱、原子力显微镜和光学显微镜等仪器对制备的薄膜进行表征分析。　　 在EBD方法中，研究了离子轰击能量、衬底温度对类金刚薄膜组成结构、形貌及厚度的影响，高的轰击能量和衬底温度有利于类金刚石薄膜中纳米石墨烯结构的形成；研究了过渡层、热退火对类金刚石薄膜内应力和组成结构的影响，合适的过渡层和退火温度促进薄膜中纳米石墨烯结构的形成，同时减小了薄膜应力；研究了激光辐照对类金刚石薄膜厚度、结构和形貌的影响，经过激光辐照后的类金刚石薄膜厚度可以被减薄到十几个原子层，而且经拉曼光谱分析显示，薄膜的结晶化结构更为显著，为含有大量纳米石墨烯结构的超薄类金刚石薄膜制备及其性质研究打下基础。