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本文系统地研究了有机质（柠檬酸钠和乙二胺四乙酸二钠）对纯钛基体表面电化学沉积羟基磷灰石（HAp）涂层的影响。通过控制实验参数（如电解液中有机质的浓度、温度、pH值、沉积时间等）,成功地在钛表面制备出不同晶体形貌且尺寸可控的纳米HAp涂层。采用X射线衍射法（XRD）,红外光谱（FTIR）和扫描电子显微镜（SEM）等分析测试手段,对HAp晶体的结构、微观形貌、成分进行了表征,探讨了有机质影响HAP晶体形貌和尺寸的机理。实验研究了柠檬酸钠对电沉积HAp涂层的影响。XRD和FTIR分析表明电解液中添加柠檬酸钠与否,钛基体表面均能生成HAp涂层。XRD分析发现HAp涂层出现了明锐的（002）衍射峰,表明HAp晶体是沿c轴方向垂直于钛基体表面择优生长。电解液不含柠檬酸钠时,沉积出的HAp晶体形貌为典型的棒状,截面为规则的六边形,直径在100nm左右。电解液中加入柠檬酸钠沉后,柠檬酸钠的浓度、电沉积温度和电解液pH值等都会对HAp晶体的形貌和尺寸产生影响。当柠檬酸钠浓度上升时,HAp晶体顶部逐渐收缩,形貌由六角形棒状转变为尖锥体状,而晶体的直径也随之逐步减小。电沉积温度升高,HAp晶体直径增大;电解液pH值升高,晶体直径减小,而且形貌由柱状逐渐转变为锥状。柠檬酸根与Ca2+形成的柠檬酸.钙螯合物抑制了HAp的生长。另一方面,HAp特定晶面对柠檬酸根的吸附作用,抑制了晶粒的聚集并改变了晶体的生长行为,使晶体沿[001]方向的生长速度加快,得到了锥状的晶体。另外实验还研究了乙二胺四乙酸二钠（EDTA）对电沉积HAp涂层的影响。XRD分析发现HAp晶体沿c轴方向垂直于钛基体表面择优生长。SEM照片显示,晶体保持棒状形貌,截面为六边形。改变实验参数（如电解液中EDTA的浓度、温度、pH值、沉积时间等）,可以获得直径在35nm到60nm之间的晶体。EDTA与钙离子形成Ca-EDTA螯合物,有效地抑制了HAp的生长。