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SU-8胶是一种在微机电系统(MEMS)中广泛应用的负性光刻胶。由于其独特的光学性能、力学性能和化学性能,以及SU-8胶光刻技术相对于LIGA(lithographie, galvanoformung and abformung)技术成本低,已被广泛的应用于MEMS传感器与执行器的制作中,在微细制造领域正受到了越来越多的关注。在MEMS工艺中,SU-8胶薄膜尤其是作为结构层使用时,其力学性能对MEMS器件制作的成败及性能的好坏至关重要。在MEMS薄膜材料力学参数中,主要包括材料的内应力,应力梯度,泊