以CF₄和C₆H₆混合气体作为源气体，在微波电子回旋共振化学气相沉积（ECR-CVD）装置中制备了氟化非晶碳薄膜（a-C:F），并在N₂气氛中作了退火处理以考察其热稳定性。使用台阶仪测量了退火前后薄膜的厚度；用紫外可见分光光度计（UV-VIS）测量了薄膜的透光谱，进而计算了光学带隙；利用傅立叶变换红外光谱仪（FTIR）和X射线光电子能谱仪（XPS）分析了薄膜的化学键和结合态；使用低频阻抗测试仪测量了薄膜的电容和损耗角正切值，考察了薄膜的介电性质；使用X射线衍射仪（XRD）获得了薄膜相的信息。本文重点研究了微波功率对薄膜热稳定性影响并考察了在N₂气氛下热处理后a-C:F薄膜的结构和性质的随退火温度的变化。 结果表明，高微波功率下制备的a-C:F膜具有较好的热稳定性；室温下沉积的薄膜主要由CF₂和CF键和C=C键构成，当退火温度较低时，C与F成分主要以CFx的形式从膜中逸出，当退火温度继续升高后，部分SP³C转变成Sp²C，使膜中C=C键含量增加；a-C;F薄膜经历了400℃热处理后仍为非晶结构；薄膜C=C键含量与光学带隙之间存在密切的关联，低的光学带隙对应较好的热稳定性；退火山氟的逸出导致了介电常数增大，薄膜取向极化的增加使得介电损耗增大。