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聚酰亚胺薄膜(Kapton)是一种重要的空间聚合物材料,但在低地轨道空间环境中会由于原子氧侵蚀而造成质损和各种性能的退化,因此其空间耐久性成为人们关注的问题之一。氧化物薄膜是最常用的原子氧防护层,而薄膜韧性、致密性等是影响其抗原子氧性能的主要因素。本文采用先进的SILAR法在基体Kapton表面制备了超薄Al2O3薄膜和Al2O3/SiO2复合膜,通过原子力显微镜、光学性能测试、X射线光电子能谱、X射线衍射、接触角测量等分析方法对所制备薄膜的结构和性能进行分析。首先,分别以AlCl3和异