【摘 要】
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电子束曝光技术是目前制造亚微米高分辨率微细图形的主要手段.该课题主要研究EeBES-40A型光栅扫描电子束曝光机真空及换片机构的工作原理和计算机控制系统.该文首先综述了微
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电子束曝光技术是目前制造亚微米高分辨率微细图形的主要手段.该课题主要研究Ee<->BES-40A型光栅扫描电子束曝光机真空及换片机构的工作原理和计算机控制系统.该文首先综述了微细加工技术的基本知识、国内外电子束曝光技术的发展过程和趋势以及电子束曝光机的研制与应用,然后较为完整地介绍了Ee<->BES-40A型光栅扫描电子束曝光机的各项技术指标、机械结构和计算机控制系统,包括系统中的控制器和接口.该文详细研究了真空系统的组成、工作原理和控制系统,从理论上推导了真空状态的故障检测方法-压强上升率法,通过压强-时间特性曲线确定影响真空的主要因素.要保证真空系统工作的可靠性,尚需研制一种有效的真空故障排除方法.该课题对Eclipse计算机与微处理器的接口进行了较为详细的研究,对控制软件作了原理性的探讨,编制出了工作流程,从宏观上设计出控制程序的基本框架,这些都在文中作了较为全面的叙述.该课题所做的工作,为下一步更新主控计算机、重新设计和配置相应的接口、保持系统真空、实现自动换片,以至最后完成计算机的自动测量与控制打下了一定的基础.
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