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自噬是从酵母到真核细胞均高度保守的自我更新的过程。该过程首先形成双层膜结构的自噬小体并包裹待降解物和受损的细胞器,然后自噬小体将待降解物运送到溶酶体消化降解,循环利用降解产物。自噬过程中,自噬体的形成是一个关键步骤,它的形成依赖于III型磷脂酰肌醇三磷酸激酶(Class Ⅲ PI3K or VPS34)的活性,VPS34能够磷酸化磷脂酰肌醇(PtdIns)生成3-磷酸磷脂酰肌醇(PtdIns3P),PI3P通过招募其他自噬相关蛋白到自噬小体前体的隔离膜上,从而促进自噬体的形成。但是,对于外界刺激诱导自噬小体形成过程中,VPS34所起的调节作用尚未完全阐明。我们的研究发现,在高效HDAC抑制剂LBH589作用下,不仅能够诱导细胞内的HSP70发生乙酰化修饰,同时能够增加Kap1的表达水平并且使其在细胞浆中累积；乙酰化修饰后的HSP70能够与VPS34-Beclinl复合体结合,增强该复合体的稳定性,而且能够与胞浆中的Kapl结合,将其招募到VPS34复合物上。同时,我们首次发现,KAP1是一个VPS34 SUMO化修饰的E3连接酶,因此被HSP70招募到VPS34上的Kapl能够帮助VPS34发生SUMO化修饰。SUMO化修饰后的VPS34不仅促进其与Beclinl的结合,而且增强VPS34复合物的稳定性,更重要的是SUMO化修饰能够增强VPS34的磷脂激酶活性,从而促进自噬小体的生成。另外,我们还发现将Hsp70敲除后,严重影响了VPS34-Beclinl蛋白复合体的形成,并阻止了KAP1与VPS34的结合,从而影响自噬体的形成。我们的研究发现,揭示了一个细胞自噬发生的新机制,即在乙酰化的HSP70帮助下,Kapl发挥E3连接酶的作用使得VPS34发生SUMO化修饰,从而增强VPS34的活性以及与Beclinl之间的相互作用来调控细胞自噬体的形成。