该论文在化学镀镍基础上开发出两种制备纳米晶镀层的方法:一种为直接法;一种为间接法.直接法是通过控制化学镀工艺中各主要参数而共沉积得到纳米晶镀层的一种方法;间接法是采用混晶晶化法,即对化学镀获得的混晶镀层进行适当温度和时间的退火处理得到纳米晶镀层的一种方法.通过这两种方法获得的纳米晶镀层既具有化学镀镍的特点,同时也具有纳米材料所特有的一些优异性能.通过大量的筛选实验,为上述两种制备纳米晶镀层的方法各设计了一套工艺(包括工艺参数和工艺条件).通过直接法获得了NiP、NiWP、NiMoP三种纳米晶镀层,通过间接法获得了不含Ni<,3>P相的不同晶粒尺寸的NiP、NiWP二种纳米晶镀层.在两种方法获得不同成分、不同结构及不同晶粒尺寸纳米晶镀层的基础上,通过对镀层表面形貌的分析、镀层显微硬度和阳极极化曲线的测量,讨论了镀层的表面形貌、硬度和耐蚀性(在5﹪H<,2>SO<,4>溶液中)随镀层成分、结构和低温退火而变化的规律特征.