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简要叙述了锗基片微光学元件红外宽带减反膜的设计与制作。着重介绍了离子束辅助淀积制备该膜系的过程，给出了用该方法制作8～12μm波段的减反膜的测试曲线，它具有峰值透过率高，在设计波长范围内的平均透过率大于97℅以上，膜层附着好，可以切割和擦洗，可以在室温和100K低温下反复循环使用。
离子束辅助淀积低温微光学元件红外宽带增透膜
【摘 要】
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简要叙述了锗基片微光学元件红外宽带减反膜的设计与制作。着重介绍了离子束辅助淀积制备该膜系的过程，给出了用该方法制作8～12μm波段的减反膜的测试曲线，它具有峰值透过率高，在
【机 构】
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科学院光电技术研究所(成都)
【出 处】
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中国光学学会光学制造技术专业委员会首届学术会议
【发表日期】
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1998年5期
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