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通过非晶多层膜中组元的空位形成焓△Ｈ〈’ａｍ〉计算了非晶多层膜界面混合区的晶化温度，得出非晶多层膜的完全晶化温度与Ｆｅ／Ｙ（Ｄｙ）界面混合区的晶化温度相近。另外非晶多层膜低温下（＜５７５Ｋ）晶化源于原子表面和界面扩散。
TM/RE非晶多层膜的晶化温度
【摘 要】
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通过非晶多层膜中组元的空位形成焓△Ｈ〈’ａｍ〉计算了非晶多层膜界面混合区的晶化温度，得出非晶多层膜的完全晶化温度与Ｆｅ／Ｙ（Ｄｙ）界面混合区的晶化温度相近。另外非晶多层膜低温下（＜５７５Ｋ）晶化源于
【机 构】
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山东工业大学材料学院
【出 处】
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第六届全国典型零件热处理学术及技术交流会第三届全国热处理学会物理冶金学术交流会
【发表日期】
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2000年期
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期刊
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