基于单晶铌酸锂薄膜的阻变机理的研究

来源 :中国物理学会2016年秋季会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:jijididixia
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  基于氧化物薄膜的阻变行为(resistive switching behaviour)以及机理的研究引起了广泛的关注,已有的研究结果表明氧空位在阻变行为中扮演着很重要的角色。为了排除晶界、晶粒以及沉积过程中随机引入的氧空位对于氧化物薄膜中阻变现象研究的影响,本文中采用单晶铌酸锂(LiNbO3,LNO)薄膜对氧化物薄膜的阻变现象进行研究,并采用在真空或者氩气气氛中进行退火的方式对铌酸锂单晶薄膜进行处理,人为可控的引入氧空位。初始的薄膜结构为LNO单晶薄膜/Pt/SiO2/LNO基片。在经历退火过程之后,在薄膜表面制备圆形的金电极作为上电极,最终形成的整个阻变单元的结构为Au/LNO/Pt的电容结构,如图1(a)所示,在施加一定电压的条件下,可以观察到阻变的电形成(electro-forming)过程。由于排除了晶界、晶粒以及薄膜沉积过程中随机引入的氧空位,后续退火过程引入的氧空位分布比较均匀,同一薄膜上的不同的阻变单元的电形成过程表现出很好的一致性。在电形成过程之后,薄膜表现出具有整流特性的导电细丝型阻变特征的现象,如图1(b)所示。结合电学性能测试和微观表征的结果,我们提出了在电场作用下由氧空位形成的导电细丝并不完全贯通阻变单元的上下电极的模型解释阻变现象的机理。
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