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近年来,准一维纳米结构材料由于其在新型的电子,光学以及光电器件中有着潜在的应用价值,因此引起了广泛的研究兴趣。最近,采用电化学淀积以及多孔阳极氧化铝模版生长法(孔径大小：50nm,背部溅射制作的金膜工作电极厚度：200nm)成功地制备出Ni,以及Ni/Cu超晶格纳米线阵列[1-3]。在本文中,对这种纳米线阵列结构进行了光学实验测量研究。