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本文指出了清洗工艺在集成电路制程中的重要性，详细介绍了目前广泛采用的几种清洗方法的清洗原理、特点、存在的问题以及发展的方向。
硅晶片生产工艺中的清洗技术
【摘 要】
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本文指出了清洗工艺在集成电路制程中的重要性，详细介绍了目前广泛采用的几种清洗方法的清洗原理、特点、存在的问题以及发展的方向。
【机 构】
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河北工业大学微电子研究所
【出 处】
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2003年清洗技术国际论坛
【发表日期】
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2003年11期
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