【摘 要】
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ITO薄膜由于具有良好的光电特性而广泛应用于液晶显示器中，尤其在扭曲向列(TN)型显示模式中更为重要．本文利用直流磁控溅射技术在不同成膜温度，氧氩比和热处理条件下进行了I
【机 构】
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北京京东方显示技术有限公司，北京，100176
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ITO薄膜由于具有良好的光电特性而广泛应用于液晶显示器中，尤其在扭曲向列(TN)型显示模式中更为重要．本文利用直流磁控溅射技术在不同成膜温度，氧氩比和热处理条件下进行了ITO膜的沉积，并使用多功能检查仪和薄膜应力计分别对ITO的面电阻，透过率以及表面应力进行了测量。通过比较实验结果，得到ITO薄膜沉积的最优工艺条件：工作气压为0.5Pa，沉积温度为120℃/120℃，氧氩比为0.55%，Oven温度为230℃，时间为20Min。
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