ITO透明导电膜的研究进展

来源 :2001年全国玻璃学术研讨与生产技术交流会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：hesehuzi

【摘要】

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本文是一篇综述性报告,对ITO透明导电薄膜的电导与掺杂机理、制备方法、性能检测、应用领域及发展前景作了简要的评述.ITO薄膜的导电机制是高价Sn替代部分In和氧缺位.ITO薄膜的制备方法有磁控溅射、CVD、超声喷雾法等,本文给出了不同方法制备的膜层的光电性能对比.ITO薄膜主要用于光电子领域,如电磁屏蔽、平面显示器等.

【作者】

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刘静李秀荣

【机构】

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中国建筑材料科学研究院(北京)

【出处】

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2001年全国玻璃学术研讨与生产技术交流会

【发表日期】

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2001年3期

【关键词】

：

电导机制制备工艺 ITO薄膜导电膜

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本文是一篇综述性报告,对ITO透明导电薄膜的电导与掺杂机理、制备方法、性能检测、应用领域及发展前景作了简要的评述.ITO薄膜的导电机制是高价Sn<4+>替代部分In<3+>和氧缺位.ITO薄膜的制备方法有磁控溅射、CVD、超声喷雾法等,本文给出了不同方法制备的膜层的光电性能对比.ITO薄膜主要用于光电子领域,如电磁屏蔽、平面显示器等.

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