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本文介绍一种微米级超微缩直写技术，实验使用辐射波长为400nm的LED作为光刻光源，需要微缩加密的图像电信号经计算机处理后输出到DMD空间光调制器，LED辐射的非相干性光由聚光、匀光系统整形为平台光斑均匀照射在DMD空间光调制器上，由双远心成像透镜系统读出DMD空间光调制器输出的图像光信号并微缩成像在光刻蚀材料上，计算机控制XY移动平台及曝光可获得大面积的微米级微缩图像或OVD图像。