氧化锌中钙氢强束缚效应

来源 :第十五届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:dangerwind
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本工作通过第一性原理(First-Principles)计算研究发现ZnO中等价替代Zn的中性Ca杂质与处于邻近氧原子的反键位(ABO)的H+有强束缚,束缚能达到0.7eV。我们把大的束缚效应归因于更低电负性的Ca把一部分电荷转移给相邻的氧原子从而使得相邻带更多负电荷的氧原子与H+有强束缚。我们的发现与Cermet样品的红外吸收谱实验一致。这一发现可能解决当前间隙H在ZnO中位置的争论。
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四针状氧化锌晶须以其独特的三维空间结构及优良的特性,在吸波材料等诸多领域有着广泛的应用前景,引起众多学者的关注。本文介绍了氧化锌晶须的结构和基本特性,着重综述了氧化锌晶须的制备以及其吸波特性的研究进展。指出改性氧化锌晶须的制备和如何改善氧化锌晶须吸波特性已逐渐成为当前研究的重点,氧化锌晶须吸波机理有待进一步的研究,基于多层膜结构和角锥结构的吸波体的制备可能成为以后发展的重点方向。
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本文使用水平热壁式化学气相沉积(hot-wall CVD)系统,固定C/Si,改变生长源流量,在偏向方向8°的4H-SiC(0001)衬底上进行了一系列同质外延实验,研究了生长源流量对外延速率、掺杂浓度的影响以及不同生长速率下外延薄膜表面形貌。
本文将硅离子注入到热氧化生长的二氧化硅层,分别进行常规退火和快速退火制得含纳米晶硅薄膜。在室温下测量了样品的光致发光谱及其与退火温度的关系。实验结果表明,在900℃以上退火,才观察到纳米硅的发生,在1100℃下退火,纳米硅发光达到最强。由常规退火和快速退火样品的光致发光光谱的对比得出快速退火对纳米硅发光有增强的作用。本文对发光机制进行了探讨,认为其发光机理可归结为纳米硅/二氧化硅界面处Si=0键引
引入应力平衡的概念,成功地设计了真实衬底,模拟了Si/Si0.68Ge0.32的反射谱,并用MBE的方法在真实衬底上生长了高反射率Si/Si0.68Ge0.32反射镜,效率可达78%。X-ray双晶摇摆曲线表明,所得材料具有较高的质量,而倒易空间扫描图表明外延Si、Si0.68Ge0.32和Si0.853Ge0.147的中心并不在一条直线上,发现理论设计的应力平衡,在实际当中并没完全达到,生长参数
本文介绍了P型高阻真空区熔硅单晶的生长方法,以及用此法所生长单晶的寿命变化特点。经过反复实验发现,真空环境下生长的高阻单晶,在转肩后不久,晶棒断面中心处,寿命均出现了明显的突变,并且有(30~40)m的低寿命区,之后随着生长的继续,寿命又会有明显的升高。此种现象存相同条件、相同原料生长的气氛单晶中就没有出现。本文还利用金相电子显微镜对所发现的低寿命区进行了缺陷分析,结果在低寿命区的断面处均末发现漩
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