熔铸法制备贫铀溅射靶片

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为制备高纯度、高密度,高表面光洁度,内部晶粒尺寸细小且均匀分布的贫铀溅射靶片,采用钙热还原贫铀铸锭开展了真空感应精炼、挤压、墩粗热加工、真空热处理工艺试验,制备了实心单质圆柱形贫铀溅射靶片。利用X射线衍射(XRD)、扫描电镜、粗糙度仪分析了贫铀溅射靶片的物相、微观组织、表面粗糙度。分析结果表明:制备的贫铀金属溅射靶片杂质含量少,内部晶粒尺寸<20μm,晶粒分布均匀,密度>1 8.90g/cm3,柱面粗糙度Ra<0.8μm,端面粗糙度<0.4μm,完全满足磁控溅射铀薄膜对贫铀溅射靶材的技术要求。
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