【摘 要】
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熔石英光学元件因为其良好的光学性能和机械性能在高功率激光系统中得到了广泛的应用。然而,在355nm激光作用于光学元件后,熔石英的损伤阈值及损伤增长问题变成了其在强激光系统中发展的瓶颈。为了提高激光诱导损伤阈值（LIDT）,熔石英光学元件使用两种HF溶液进行处理,分别是1.7%的HF溶液和0.4%的HF与12%的NH4F的BOE溶液。损伤测试表明,这两种刻蚀液在去除材料一定深度的情况下都会提高损伤阈
【出 处】
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强激光材料与元器件学术研讨会暨激光破坏学术研讨会论文集
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熔石英光学元件因为其良好的光学性能和机械性能在高功率激光系统中得到了广泛的应用。然而,在355nm激光作用于光学元件后,熔石英的损伤阈值及损伤增长问题变成了其在强激光系统中发展的瓶颈。为了提高激光诱导损伤阈值（LIDT）,熔石英光学元件使用两种HF溶液进行处理,分别是1.7%的HF溶液和0.4%的HF与12%的NH4F的BOE溶液。损伤测试表明,这两种刻蚀液在去除材料一定深度的情况下都会提高损伤阈值,但是进一步去除就会大大降低元件的激光损伤能力。在处理过程中,这两种刻蚀液的去除速率都很稳定,分别为85.9μφ、min和58.6μm.min左右。另外,元件表面的粗糙度（RMS＆PV）会随着刻蚀时间的增加而变大。同时,在刻蚀过程中通过纳米技术测得的熔石英元件表面的硬度及杨氏系数,没有证据表明其与激光诱导损伤有明确的关系。
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