非掺半绝缘GaAs晶片多步热退火的机理研究

来源 :全国化合物半导体、微波器件和光电器件学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xixihahawotiana
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该文利用wenzi的GaAs缺陷模型研究了在晶片多步热退火的高温退火段中,Ga1-As固溶体化学计量比偏离度(S=1-2x)对晶体气固相平衡的影响。计算表明,GaAs晶体在固溶区中的离解压依赖于化学计量比偏高度和杂质的浓度。在富As区,离解压随化学计量比偏高度的增加,迅速增大。在富Ga区,离解压随化学计量比偏离度的增加,趋于零。杂质碳使离解压有少许增大,浓度较高的硼使离解压有较大下降。
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