高抗氧化性低辐射玻璃的薄膜研究

来源 :广东省真空学会2011年学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:JackCF1
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本研究旨在解决常规低辐射玻璃容易氧化的难题,使其更加稳定,耐用,可在大气中长期储存.在玻璃基片表面首先镀制硅基介质层,每个介质层分为1-5个子层,每个子层组分由渐变的硅氧薄膜、硅氮薄膜或硅氧氮薄膜构成。每个子层中,以该子层中心平面为对称平面,硅组分和折射率在该平面上下两侧成对称分布,硅组分和折射率较高的部位位于该子层的中心平面,硅组分和折射率较低的部位位于该子层的最外侧的两个平面,在介质层表面镀制金属强化层,采用钛、锆等金属,在强化层表面镀制银层,在银层表面镀制金属强化层,同第2一样,镀制硅基介质层,同第1层一样。该方法解决了氧化问题,封装成中空结构后不怕弱呼吸作用,即使氧气进入中空玻璃中,性能也不会降低.在此基础上,优化膜系结构,减少后续生产加工流程,降低生产成本,减少资源的浪费,提高资源可利用效率,
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