【摘 要】
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本文利用严格耦合波理论对用于光纤光栅制作的相位掩模的衍射特性进行了深入的研究.研究发现,为了使零级衍射效率小于5％,且正负一级的衍射效率大于35％,相位掩模的刻槽深度必须
【机 构】
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苏州大学信息光学工程研究所,苏州,215006
【出 处】
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全国第十二次光纤通信暨第十三届集成光学学术会议
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本文利用严格耦合波理论对用于光纤光栅制作的相位掩模的衍射特性进行了深入的研究.研究发现,为了使零级衍射效率小于5％,且正负一级的衍射效率大于35％,相位掩模的刻槽深度必须控制在230～280nm,占宽比必须控制在0.48～0.65.同时与标量衍射理论的结果进行了分析对比.这些都为相位掩模的实际制作提供了有意义的结果.
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